亚辉^1,2 , 徐淑兔^1,2 , 郑倩文^1,2 , 杨秋涵^1,2 , 何坤辉^1,2 , 聂佳伟¹ , 冯永琴¹ , 刘建超^1,2 , 薛吉全^1,2*

1西北农林科技大学农学院, 农业部西北旱区玉米生物学与遗传育种重点试验室, 杨凌, 712100; 2陕西省玉米工程技术研究中心, 杨凌, 712100
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《分子植物育种》印刷版, 2018 年, 第 16 卷, 第 5 篇   
收稿日期: 2017年05月19日    接受日期: 2017年07月20日    发表日期: 2018年03月10日

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为了研究玉米苗期叶片叶绿素光照强度响应的遗传规律，本研究以玉米骨干自交系K22与Dan340为父母本构建的192个重组自交系作为研究材料，采用完备区间作图法(ICIM)，对苗期玉米不同叶片黑暗处理前后叶绿素指数SPAD进行了QTL定位分析。分析结果共检测到位于1、2、5、6、8号染色体的19个QTL，单个QTL可解释4.80%-14.32%的表型变异。其中黑暗处理前分别定位到位于1、2、5、6号染色体的10个QTL，黑暗处理后共检测到位于1、5和8号染色体的5个QTL；同时以黑暗处理前后的叶绿素指数差值作为考察叶绿素降解的指标，共检测到位于5、6和8号染色体的4个QTL。研究结果说明不同部位叶片的叶绿素调控机理有所不同，而且不同部位叶片光照响应也不同，该结果可为探究叶片光照响应遗传机理提供参考。

玉米；叶绿素；数量性状位点；光照强度